東京工業大学 共用機器管理システム

機器詳細情報 ユニット:最表面分析システム

  • 走査型X線光電子分光分析装置(XPS)
  • PHI5000 VersaProbe
設備IDID No.4
メーカーManufacturerアルバック・ファイ株式会社 (ULVAC-PHI)
検索キーワードKeywordXPS、ESCA、UPS、X線光電子分光、紫外光電子分光
概要・性能Outline試料表面にX線を照射し、生じる光電子のエネルギーから構成元素や化学(結合)状態について探索可能。
元素マッピングにも応用される
仕  様Spec(長所)
モノクロメータ付き
深さ方向分析可能(+イオンスパッタリング装置)
非破壊深さ方向分析可能(+角度分解)
紫外光電子分光分析装置併用可能
(短所)
X線出力が(PHI1600に比べると)弱い

※トレーニング動画をYoutubeに限定公開しています※

1.サンプルの準備
2.イントロの蓋を外す
3.サンプルの真空引き
4.システムの停止・再起動
5.ステージの初期化
6.中和銃・イオン銃の準備
7.サンプル移動
8.サンプルをステージに載せる
9.サーモバルブをsetpointにする
10.位置調整
11.ワイドスキャン分析(SUR)
12.ナロースキャン分析
13.サンプル取出し
14.イオン銃・中和銃の終了操作
15.終了時の最終確認
16.Arスパッタによる表面クリーニング
17.深さ方向分析(Depth Profile)
設置場所Location大岡山 南7号館410号室
機器管理者Machine Administrator金井貴子
連絡先(内線)Contact(Internal)c-versa[at]tokyotech-pai.jp (3356)
予約方式Reserve Type仮予約(要承認)

利用対象者・利用料金 / Openness level & Fees

学内 / Within University学外 / Outside University
(セルフ / Self use)(依頼測定 / Measurement request)学術利用
(本学以外の大学又は公的機関)
産業利用
(公企業・私企業)
利用の可否Accept/Not
利用者による測定:
基本料金Fees
2000円/時、20,000円/日

留意点 / Notes

実験内容・条件について矢野先生に事前相談後、講習を経てライセンス授与後使用可能