東京工業大学 共用機器管理システム

機器詳細情報 ユニット:最表面分析システム

  • 走査型X線光電子分光分析装置(XPS)
  • PHI5000 VersaProbe
設備IDID No.4
メーカーManufacturerアルバック・ファイ株式会社 (ULVAC-PHI)
検索キーワードKeywordXPS、ESCA、UPS、X線光電子分光、紫外光電子分光
概要・性能Outline試料表面にX線を照射し、生じる光電子のエネルギーから構成元素や化学(結合)状態について探索可能。
元素マッピングにも応用される
仕  様Spec(長所)
モノクロメータ付き
深さ方向分析可能(+イオンスパッタリング装置)
非破壊深さ方向分析可能(+角度分解)
紫外光電子分光分析装置併用可能
(短所)
X線出力が(PHI1600に比べると)弱い

トレーニング動画は現在非公開です
サンプルホルダーにサンプルをセットする手順のみ公開しています


1.サンプルの準備
2.イントロの蓋を外す
3.サンプルの真空引き
4.システムの停止・再起動
5.ステージの初期化
6.中和銃・イオン銃の準備
7.サンプル移動
8.サンプルをステージに載せる
9.サーモバルブをsetpointにする
10.位置調整
11.ワイドスキャン分析(SUR)
12.ナロースキャン分析
13.サンプル取出し
14.イオン銃・中和銃の終了操作
15.終了時の最終確認
16.Arスパッタによる表面クリーニング
17.深さ方向分析(Depth Profile)
設置場所Location大岡山 南7号館410号室
機器管理者Machine Administrator技術専門員 金井貴子
連絡先(内線)Contact(Internal)3356
予約方式Reserve Type仮予約(要承認)

利用対象者・利用料金 / Openness level & Fees

学内 / Within University学外 / Outside University
(セルフ / Self use)(依頼測定 / Measurement request)学術利用
(本学以外の大学又は公的機関)
産業利用
(公企業・私企業)
利用の可否Accept/Not
利用者による測定:
基本料金Fees
2000円/時、20,000円/日

留意点 / Notes

実験内容・条件について矢野先生に事前相談後、講習を経てライセンス授与後使用可能