東京工業大学 共用機器管理システム

機器詳細情報 ユニット:最表面分析システム

  • X線/紫外光電子分光分析装置(XPS)
  • PHI 1600
設備IDID No.3
メーカーManufacturerアルバック・ファイ株式会社 (ULVAC-PHI)
検索キーワードKeywordXPS、ESCA、X線光電子分光
概要・性能Outline試料表面にX線を照射し、生じる光電子のエネルギーから構成元素や化学(結合)状態について探索可能。
元素濃度分析が可能(Li〜)
仕  様SpecX線源 :モノクロメータAl kα(最大出力300W) 
付属装置1:絶縁性試料のための中和電子銃 
  付属装置2:試料破断装置 
分析領域サイズ:0.15~0.8mmΦ 
試料サイズ:1インチホルダーに載せられる程度(厚さ最大7mm程度) 
※イオン銃は装備されていないので表面スパッタはできません。

※トレーニング動画をYoutubeに限定公開しています※

XPS共通       0.サンプルホルダーにサンプルを取り付ける
mono-XPS(PHI 1600) 1.予備排気室のフタを取る←6/23リンク修正
mono-XPS(PHI 1600) 2.サンプルを予備排気室にセットする
mono-XPS(PHI 1600) 3.サンプル予備排気を開始する
mono-XPS(PHI 1600) 4.ステージ位置の調整
mono-XPS(PHI 1600) 5.V1を開ける
mono-XPS(PHI 1600) 6.サンプル移動
mono-XPS(PHI 1600) 7.中和銃を移動させる
mono-XPS(PHI 1600) 8.周辺機器をONにする
mono-XPS(PHI 1600) 9.フォーカスと位置合わせ
mono-XPS(PHI 1600) 10.X線源の準備
mono-XPS(PHI 1600) 11.中和銃の準備 
mono-XPS(PHI 1600) 12.アライメント
mono-XPS(PHI 1600) 13.Wide Scan
以下準備中

Narrow ScanはMicro-XPSとのほぼ同じ操作になるのでそちらを参考にしてください
12.ナロースキャン分析
設置場所Location大岡山 南7号館410号室
機器管理者Machine Administrator金井貴子
連絡先(内線)Contact(Internal)3356
予約方式Reserve Type仮予約(要承認)

利用対象者・利用料金 / Openness level & Fees

学内 / Within University学外 / Outside University
(セルフ / Self use)(依頼測定 / Measurement request)学術利用
(本学以外の大学又は公的機関)
産業利用
(公企業・私企業)
利用の可否Accept/Not
利用者による測定:
基本料金Fees
2000円/時、20,000円/日

留意点 / Notes

実験内容・条件について事前相談後、講習を経てライセンス授与後使用可能