東京工業大学 共用機器管理システム

機器詳細情報 ユニット:構造解析システム

  • 薄膜X線回折装置(XRD)
  • ATX-G
設備IDID No.22
メーカーManufacturerリガク
検索キーワードKeywordXRD 薄膜
概要・性能OutlineX線は、波長が短く、エネルギーの高い電磁波の為、回折によって原子の配列情報が取得でき元素同定が可能である。 原子が正しく配列している(配列面を格子面という)物質に、原子の間隔と同程度の波長(0.5Å~3.0Å)を持つX線を入射すると、各原子で散乱されたX線が、ある特定の方向で干渉しあい、強いX線を生じる。このX線の回折を観察(X線回折プロファイル)することで、 物質の同定を行う。
仕  様Spec特色・仕様: 本装置は、薄膜X線回折装置である。X線を全反射近傍で入射回折させる“In Plane”回折法による高いS/Nで表面構造の直接測定が可能。膜厚10~100nm対応。半導体関連薄膜や磁性薄膜等の薄膜材料の面内配向などの表面構造の測定・評価が可能。 実例:リチウム電池電極薄膜の配向測定・特性相関
設置場所Locationすずかけ台 G1棟701号室
機器管理者Machine Administrator鈴木耕太
連絡先(内線)Contact(Internal)5570
予約方式Reserve Type通常予約

利用対象者・利用料金 / Openness level & Fees

学内 / Within University学外 / Outside University
(セルフ / Self use)(依頼測定 / Measurement request)学術利用
(本学以外の大学又は公的機関)
産業利用
(公企業・私企業)
利用の可否Accept/Not
利用者による測定:
基本料金Fees
10,000円/1時間20,000円/1サンプル

留意点 / Notes

自己測定の利用希望者は、機器管理者からオペトレ(サンプル調整含む)を受講した後、自己測定を行う。